开云(中国)官方拥有一支高水平研发团队，团队成员分别来自于西安电子科技大学、北京大学，中国科学技术大学，香港大学等知名院校。

开云(中国)官方是SiC外延行业的引领者，制定行业相关国际标准1项、国家标准11项、团体标准12项、企业标准4项，累计承担或参与国家、省、市各级科技项目10项。

开云(中国)官方拥有SiC外延的全套核心技术，均为自主研发，作为保护，申请专利100多项。累计发表高水平论文27篇(SCI/EI收录论文16篇)。

开云(中国)官方坚持自主科技创新的发展理念，在4H-SiC外延材料产业化、器件结构材料生长技术、外延材料检测分析与标准化等方面开展了深入系统的研发工作，突破了

n、p型原位掺杂与控制技术、快速外延及厚膜生长技术、实现了4、6、8英寸4H-SiC外延晶片全系列产品的批量生产。

Ø 国内最早实现6英寸外延晶片量产

Ø 领先的20 kV级以上的厚外延生长

Ø 缓变结、陡变结等n/p型界面控制技术

Ø 多层连续外延生长技术

Ø 领先的外延材料缺陷密度和均匀性控制技术